Описание продукта
SKIN1004 - Увлажняющая гелевая маска с центеллой - Madagascar Centella Watergel Sheet Ampoule Mask
Объём: 25ml
SKIN1004 - Увлажняющая гелевая маска с центеллой - тканевая маска с экстрактом центеллы азиатской, которая восстанавливает кожу и снимает раздражение. Бетаин и гиалуроновая кислота глубоко увлажняют кожу и повышают ее эластичность. Маска делает кожу заметно более гладкой. В состав средства входят компоненты натурального происхождения.
Активные компоненты:
Объём: 25ml
SKIN1004 - Увлажняющая гелевая маска с центеллой - тканевая маска с экстрактом центеллы азиатской, которая восстанавливает кожу и снимает раздражение. Бетаин и гиалуроновая кислота глубоко увлажняют кожу и повышают ее эластичность. Маска делает кожу заметно более гладкой. В состав средства входят компоненты натурального происхождения.
Активные компоненты:
- экстракт центеллы азиатской - регенерирует и успокаивает, имеет антивозрастные свойства,
- бетаин - увлажняет,
- масло листьев мяты полевой - обладает противовоспалительным действием, осветляет и увлажняет,
- гиалуроновая кислота - обладает способностью связывать воду в эпидермисе, глубоко увлажняет, повышает эластичность кожи.
Действие средства:
- глубоко увлажняет,
- успокаивает раздражения,
- регенерирует.
Типы и недостатки кожи, для которых это средство может быть полезным:
- все типы кожи.
Способ использования: Равномерно распределить маску по лицу и снять через 10-20 минут. Распределить оставшуюся эссенцию по коже.
Перед первым использованием выполните тест на аллергию. Проверьте наш тест на аллергию, чтобы узнать больше.
Срок годности: на упаковке.
Производитель: Южная Корея.
Состав
Centella Asiatica Extract, Aqua, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Betaine, Butylene Glycol, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Polyglyceryl-10 Laurate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Carbomer, Xanthan Gum, Arginine, Ethylhexylglycerin, Sodium Hyaluronate, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Propanediol, Coptis Japonica Root Extract, Mentha Arvensis Leaf Oil, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Raspberry Ketone, Disodium EDTA
Остережения
- Продукт предназначен только для наружного использования.
- Не использовать на поврежденной коже.
- Избегать попадания в глаза.
- При появлении каких-либо признаков раздражения прекратить использование продукта.
- Хранить в недоступном для детей месте.
- Хранить при комнатной температуре в темном месте. Перепады температуры при транспортировке не влияют на свойства продукта.
Отзывы (2)
5.00
Количество выставленных отзывов: 2
Напишите свой отзыв
За отзыв Вы получите
350 бал.
в нашей программе лояльности.
5
4
3
2
1
Нажмите на оценку, чтобы отфильтровать отзывы
5/5
Хорошая маска, выравнивает и успокаивает кожу, придаёт нежность. Аромат лёгкий и ненавязчивый
2024-09-12
5/5
Маска чудесная. Обычно основа корейских масок редко подходит под форму лица, с этим продуктов проблем не заметила ( подошло идеально, прилегало плотно). После нанесения не ощутила эффекта липкости. Кожа стала гладкой, увлажненной, немного уменьшила пигментацию красных пятен. Порадовал также приятный, но легкий аромат.
2023-01-22
Вопрос
Познакомьтесь с нашими экспертами,
которые с радостью ответят на все ваши вопросы относительно этого продукта
Оксана
Єфремова
Косметолог, консультант по уходу
Інна
Кокоріна
Косметолог, консультант по уходу
Марія
Романовська
консультант по уходу
Дар'я
Герман
Косметолог, консультант по уходу